• 微流控SU8掩膜版的制作方法微流控SU8掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜的工藝過(guò)程，涉及到多個(gè)步驟。以下是詳細(xì)的制作流程：1. 掩膜版設(shè)計(jì)原理圖設(shè)計(jì)：根據(jù)微流控芯片的設(shè)計(jì)要求，進(jìn)行原理圖設(shè)計(jì)，分...2024-11-20 10:06:40
• SU8 光刻膠使用方法及注意事項(xiàng)使用方法基底準(zhǔn)備在使用SU-8光刻膠之前，基板應(yīng)保持清潔和干燥.清潔基板的方法包括使用硫酸和過(guò)氧化氫的混合液（piranha etch）進(jìn)行濕法清洗，...2024-09-27 09:37:13
• 硅片模具???? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 硅片注塑模具? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ...2025-07-03 19:46:10
• 光刻加工寬5μm，高度5μm到400μm可控，誤差在5-10%；光刻膠種類：進(jìn)口SU8系列，國(guó)產(chǎn)SU8系列，進(jìn)口AZ50XT，AZ9260；光刻膠模具優(yōu)點(diǎn)：圖...2025-07-03 19:46:10
• 純硅模具純硅模具介紹在微流控芯片的加工過(guò)程中，除了使用SU8實(shí)惠的模具，還需要高精度的純硅模具。一般在以下情況我們會(huì)選擇加工純硅模具：1、需要比SU-8模具更高的深寬比；2、模具的加工精度誤差在1μm以內(nèi)...2025-07-03 19:46:10
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列8 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:07:48
• 用于絲狀真菌抗真菌分析的液滴微流控平臺(tái)（下）8軟件下設(shè)計(jì)（圖5a），并由CAD/Art打印在光掩模上。在硅晶圓上制備SU8-2050負(fù)性光刻膠模具，通過(guò)紫外線照射和隨后的顯影（SU-8顯影液）。...2024-05-16 11:26:02
• AZ 5214E 光刻膠AZ光刻膠刻蝕厚度從1μm到150μm以及更厚。AZ光刻膠特點(diǎn)：適用于高分辨率工藝（lift-off工藝）適用于正/負(fù)圖形很寬的膜厚范圍AZ光刻膠工藝...2024-03-28 10:29:49
• 光刻膠8?膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:18:53
• 進(jìn)口 Microchem SU-8 光刻膠 2000系列 100-1508 膠正被逐漸應(yīng)用于 MEMS、芯片封裝和微加工等領(lǐng)域。目前，直接采用 SU8光刻膠來(lái)制備深寬比高的微結(jié)構(gòu)與微零件已經(jīng)成為微加工領(lǐng)域的一項(xiàng)新技術(shù)。在微...2024-03-28 10:12:32